多功能多对靶磁控溅射设备

多功能多对靶磁控溅射设备

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多功能多对靶磁控溅射设备

［作者：佚名转贴自：http://www.tt.cas.cn/web/Fruits/search.asp?pgno=14&txtFruitType=TG&txtTop=200000&txtOrderby=%20Fruit 点击数：78 更新时间：2006/9/11 文章录入：夏晶晶］

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项目类型：	可推广技术产品
项目单位名称：	中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 (查看联系信息)
专利状况：	未申请专利
技术（产品）报价：
单位所在地区：	辽宁

技术(产品)用途介绍：

主要用途 :

用于仿金装饰涂层，超硬耐磨涂层，具有大型化，生产效率高，成本低等特点。

产品性能：

技术指标：

镀膜室尺寸：φ600×700

多弧源：2KW

极限真空度：2×10-3Pa

抽真空时间：≤20分钟

加热：300℃，4KW

[注：标题搜索比内容搜索快]

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