技术(产品)用途介绍：

主要用途 :

可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜和磁性薄膜等。该系统可以单独也可以同时进行磁控溅射镀膜和离子束溅射镀膜，也可以联合制备磁控和离子束复合膜。

产品性能：

整个系统具有用离子束制备超薄膜到中厚膜和用磁控溅射制备中厚膜到厚膜的全部功能。