技术(产品)用途介绍：

主要用途 :

制备非晶硅薄膜，用以制造太阳能电池。

产品性能：

技术指标 ：

真空度：主沉积室＜7×10-5Pa 进出片室＜7×10-4Pa ，真空度可调

样品尺寸：220×220

称底温度：350℃，可控可调

RF电源：f=13.56MHZ 300-1000W

结构：七个矩型真空室，500×450×300，样品接交取放自动控制