技术(产品)用途介绍：

 本发明涉及一种用于磁约束聚变装置第一壁的清洗工艺，其特征是：离子回旋天线置于磁约束聚变装置内，该装置内预充有氦气；由射频发射机提供所需的射频波；射频波经阻抗匹配系统耦合到离子回旋天线，使该天线激发射频电磁波；射频电磁波电离产生等离子，轰击面向等离子的磁约束聚变装置第一壁表面，解吸吸附在该壁表面的杂质；用大抽速的真空泵将解吸出来的杂质分子抽出，实现快速、高效清洗磁约束聚变装置第一壁的目的。