成立于 1982 年,从工研院工业材料研究所的命名,便透露当初成立的初衷,材料所不仅仅 是着眼于如中钢、台塑之类的材料工业,而是看见任何产业发展到一定阶段后,对工业材料的要求会更为殷切的必然,因此必须要有一个能够适时提供材料技术的单位。 此外,材料研究到商品化的路途遥远,以致学界与业界之间有很深的鸿沟,工业材料研究所的成立也是我国材料科技从学术研究进入产业化的里程碑。
显示器材料与组件技术与高频宽带材料、储能材料与组件、奈米材料、高性能金属材料并列为材料所重点技术研发主轴,目前在显示器材料与组件技术方面投入研发内容包含材料配方技术、组件结构设计及制作、制程技术开发等,涵盖显示器产业目前及未来所需的材料技术。
平面显示器材料技术开发的制程导入验证方面,目前已建构完成背光模块材料、彩色滤光板材料制程验证技术。在材料与制程导入界面外,更致力于高分子材料的表 / 界面特性改质技术开发,目前已成功开发完成低压与常压电浆改质技术并应用在光学薄膜的精密涂布制程中。
液晶显示器用彩色滤光片用材料方面,包括彩色光阻、树脂型黑色矩阵光阻、光间隙光阻。近年来随 LCD-TV 的技术发展需求,积极进行相关材料的专利布局,并应用 RSM 技术已完成大面积涂布用光阻相关关键特性分析与数据库建立,同时结合奈米改质分散与光阻树脂技术进行高彩域材料与广视角用微影凸块材料开发。
液晶及光学膜材料技术则包括液晶材料设计及合成、液晶材料配方及检测技术、广视角膜材料及制程技术、增亮膜材料及制程技术、配向膜材料之合成及配方技术、偏光膜材料及制程技术、奈米压印 (Nanoimprinting) 材料及制程技术。
至于其它显示技术,材料所于民国 87 年开始研发有机发光二极管材料及组件技术,在有机发光材料开发方面,先后完成新颖红、绿、蓝三原色荧光材料及红、橘光磷光材料开发,并完成荧光材料合成及纯化的量产技术开发。在组件技术方面,完成低温高导电性透明电极技术、组件结构设计技术、全彩化组件制作技术及透明阴极技术。另外完成有机发光二极管组件用绝缘膜光阻材料技术及有机发光二极管封装用框胶材料技术。
有别于一般滚筒式或刮刀式涂布技术,材料所长期投入发展精密涂布技术的发展,乃以挤压式模具涂布法进行高精密、高质量产品之研发,尤以电子材料、光电材料涂布之制作为主,故致力于各项涂布相关技术的建立。显示器用材料包括平面显示器用光学膜材料制程开发、大面积玻璃材料涂布技术,实验都在无尘室环境下进行,力求最高的涂布质量。
另外对于 LCD 设备耗材如 PI Coater (Anilox Roll) 、 Slot Die (Die Head) 、载台 (PR 及 Curing) 、铝溅镀模版、 UV Excimer Lamp 、 Filter (Cartridge) 、及精密模具/模仁等,提供寿命 ( 磨耗 ) 、塞孔、涂布不均匀、腐蚀、不同镀层堆积造成制程污染、精密度不足等问题的解决方案,已经开始进行研发。
由工研院材料所发起并结合展茂光电、剑度、瑞仪、辅祥、长兴、台湾永光、东元激光、精迈及碧悠等国内业者筹组而成的「台湾平面显示器材料与组件产业协会 (TDMDA) 」, 2004 年 4 月 30 日 正式成立。该协会期许提供一个良好的机制,藉由协会的运作建立与「中华民国台湾薄膜晶体管液晶显示器产业协会 (TTLA) 」良好的互动,充分掌握客户需求,并透过制程整合及新材料之开发,以掌握智慧财产权,并进一步参与检测标准之制定。
 
彩色滤光片立体凸块微影材料 ( AFM Size= 15 m m )

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Driving Scheme: Active
Pitch: 80um x 240um
A.R.: 30%
Resolution: QVGA (320x240)
Brightness > 50 nits
Contrast: 100:1
Gray scale: 4 bit color
Driving: voltage |
材料所与电子所共同开发之主动式驱动 LT-Poly TFT array 全彩 3.8 吋 OLED 面板
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