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多功能多对靶磁控溅射设备

作者：佚名    转贴自：http://www.tt.cas.cn/web/Fruits/search.asp?pgno=14&txtFruitType=TG&txtTop=200000&txtOrderby=%20Fruit    点击数：78


项目类型： 可推广技术产品
项目单位名称： 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 (查看联系信息)
专利状况： 未申请专利
技术（产品）报价：
单位所在地区： 辽宁

技术(产品)用途介绍：

   主要用途 :

用于仿金装饰涂层，超硬耐磨涂层，具有大型化，生产效率高，成本低等特点。

产品性能：

技术指标 ：

镀膜室尺寸：φ600×700

多弧源：2KW

极限真空度：2×10-3Pa

抽真空时间：≤20分钟

加热：300℃，4KW