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离子注入设备

作者：佚名    转贴自：http://www.tt.cas.cn/web/Fruits/search.asp?pgno=14&txtFruitType=TG&txtTop=200000&txtOrderby=%20Fruit    点击数：76


项目类型： 可推广技术产品
项目单位名称： 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 (查看联系信息)
专利状况： 未申请专利
技术（产品）报价：
单位所在地区： 辽宁

技术(产品)用途介绍：

结构组成 :

单壁真空室，外有水冷管路，全面磁铁，外二层为防护铅皮最外层为不锈钢板。

产品性能：

技术指标 ：

——真空室尺寸：Φ1000×1200

——漏 率： 〈3.75×10-7Pa·L/S

——真空室极限真空度：3.75×10-5Pa